PERFECTA FENOMEN C Maska na twarz, szyję, dekolt, 8 ml

Składniki/Ingredients

Aqua, Lecithin, Sorbitol, Ascorbyl Glucoside, Panthenol, Glucose, Trilaureth-4 Phosphate, Glycerin, Cetearyl Ethylhexanoate, Butyrospermum Parkii Butter, Behenyl Alcohol, Dimethicone, Dicaprylyl Ether, Sodium Acrylates Copolymer, Ascorbyl Tetraisopalmitate, Alcohol, Terminallia Ferdinandiana Fruit Extract, Phospholipids, Sphingolipids, Isostearyl Hydroxystearate, Butylene Glycol, Must Sapientium Extract, Centella Asiatica Extract, Phenoxyethanol, Hydroxyacetophenone, Octadecyl, Di-T-Butyl-4-Hydroxyhydrocinnamate, Alpha-Isomethyl Ionone, Hexyl Cinnaml, Limonene, Citronellol, Linalool, Geraniol, Benzyl Salicylate, Benzyl Benzoate, Parfum, Ci 19140, CI 15985.

Przeznaczenie produktu

Perfecta Fenomen C maska na twarz, szyję, dekolt to kosmetyk przeznaczony do codziennego stosowania w celu pielęgnacji skóry twarzy.

Stosowanie produktu

Sposób użycia Perfecta Fenomen C maska na twarz, szyję, dekolt: nałożyć grubszą warstwę maski na twarz, szyję i dekolt. Po ok. 15-20 minutach nadmiar maseczki wmasować lub zmyć wacikiem nasączonym wodą. Można aplikować na noc zamiast kremu. Polecana do stosowania 1-2 razy w tygodniu.

Informacje o bezpieczeństwie

Unikać kontaktu z oczami. Nie stosować w przypadku uczulenia na którykolwiek składnik produktu.