SKIN1004 Madagascar CentellaTea-Trica BHA Foam, 125 ml

Opis SKIN1004 Madagascar CentellaTea-Trica BHA Foam

SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica BHA Foam to produkt kosmetyczny w postaci pianki do oczyszczania twarzy, opracowany na bazie składników myjących oraz ekstraktów roślinnych. Receptura zawiera kwas salicylowy, ekstrakt z wąkroty azjatyckiej, olejek z drzewa herbacianego i kompleks składników pochodzących z drzew iglastych. Kosmetyk pomaga usuwać zanieczyszczenia, nadmiar sebum oraz pozostałości codziennych kosmetyków, pozostawiając skórę odświeżoną i oczyszczoną.

• Dokładnie oczyszcza skórę twarzy, usuwając nagromadzone zanieczyszczenia i nadmiar sebum.
• Wspomaga odblokowywanie porów, pomagając ograniczyć powstawanie zaskórników.
• Łagodzi podrażnienia i zaczerwienienia, poprawiając komfort naskórka.
• Pomaga usuwać martwe komórki naskórka i wygładzać jego powierzchnię.
• Ogranicza nadmierne błyszczenie cery i zapewnia uczucie świeżości.

Składniki/Ingredients

Water, Myristic Acid, Glycerin, Potassium Hydroxide, Stearic Acid, Glyceryl Stearate, Propanediol, Lauryl Hydroxysultaine, Palmitic Acid, Sodium C14-16 Olefin Sulfonate, Potassium Benzoate, Salicylic Acid(4,500ppm), Butylene Glycol, Sorbitol, 1,2-Hexanediol, Sodium Chloride, Centella Asiatica Extract(2,055ppm), Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Oil(2,000ppm), Cetearyl Alcohol, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water(940ppm), Melia Azadirachta Leaf Extract, Hydrogenated Polydecene, Arachidic Acid, Lauric Acid, Sodium Citrate, Melia Azadirachta Flower Extract, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Oleic Acid, Theobroma Cacao (Cocoa) Seed Extract, Dextrin, Citric Acid, Disodium EDTA, Pentylene Glycol, Caprylyl Glycol, Chamaecyparis Obtusa Water, Pinus Palustris Leaf Extract.

Przeznaczenie produktu SKIN1004 Madagascar CentellaTea-Trica BHA Foam

Pianka do oczyszczania skóry twarzy, szczególnie cery mieszanej, tłustej, problematycznej oraz skłonnej do zaskórników i niedoskonałości. Odpowiednia również dla skóry z nadmiernym wydzielaniem sebum i widocznymi porami. W przypadku cery suchej lub wrażliwej należy uwzględnić indywidualną tolerancję kosmetyku.

Stosowanie produktu SKIN1004 Madagascar CentellaTea-Trica BHA Foam

Niewielką ilość pianki nanieść na wilgotne dłonie i rozetrzeć z dodatkiem wody do uzyskania piany. Delikatnie masować skórę twarzy, omijając okolice oczu, a następnie dokładnie spłukać letnią wodą. Stosować rano i/lub wieczorem, dostosowując częstotliwość do potrzeb skóry. Po oczyszczaniu zaleca się zastosowanie kosmetyku nawilżającego.

Informacje o bezpieczeństwie

• Produkt wyłącznie do użytku zewnętrznego.
• Nie stosować na uszkodzoną skórę.
• Unikać kontaktu z oczami. W przypadku dostania się produktu do oczu natychmiast przemyć je wodą.
• Przed pierwszym zastosowaniem zaleca się wykonanie próby uczuleniowej.
• W przypadku pojawienia się oznak podrażnienia należy przerwać stosowanie produktu.
• Ze względu na zawartość kwasu salicylowego i olejku z drzewa herbacianego zaleca się ostrożność w przypadku skóry szczególnie wrażliwej.
• Przechowywać w suchym i chłodnym miejscu.
• Przechowywać poza zasięgiem dzieci.

FAQ SKIN1004 Madagascar CentellaTea-Trica BHA Foam

Czy pianka SKIN1004 Tea-Trica BHA Foam pomaga ograniczyć powstawanie zaskórników?

Tak. Zawarty w formule kwas salicylowy wspomaga złuszczanie martwego naskórka oraz oczyszczanie ujść gruczołów łojowych, co może pomóc ograniczyć widoczność zaskórników i poprawić strukturę skóry.

Czy pianka SKIN1004 Tea-Trica BHA Foam nadaje się do skóry tłustej i trądzikowej?

Tak. Kosmetyk pomaga usuwać nadmiar sebum oraz zanieczyszczenia, dlatego sprawdza się w pielęgnacji cery tłustej i skłonnej do niedoskonałości. Nie zastępuje jednak leczenia dermatologicznego trądziku.

Czy piankę SKIN1004 Tea-Trica BHA Foam można stosować codziennie?

Tak. Pianka może być stosowana podczas codziennego oczyszczania twarzy, o ile jest dobrze tolerowana przez skórę. W przypadku wystąpienia przesuszenia lub uczucia ściągnięcia zaleca się ograniczenie częstotliwości stosowania.