SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask, 23 ml

Opis SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask, głęboko nawilżająca maska w płachcie to produkt kosmetyczny przeznaczony do uzupełnienia codziennej pielęgnacji twarzy o skoncentrowaną dawkę składników nawilżających. Receptura łączy niacynamid, hydrolat z róży damasceńskiej oraz kompleks kwasu hialuronowego ze składnikami wspierającymi kondycję bariery hydrolipidowej. Nasączona esencją płachta dopasowuje się do konturów twarzy, pomagając przywrócić cerze świeży wygląd, sprężystość i uczucie ukojenia.

• Zmniejsza uczucie przesuszenia naskórka i poprawia jego komfort.
• Wspomaga wygładzenie drobnych zmarszczek wynikających z niedostatecznego nawilżenia.
• Pomaga wyrównać koloryt cery i przywrócić jej promienny wygląd.
• Wspiera regenerację oraz utrzymanie prawidłowej kondycji bariery hydrolipidowej.
• Pozostawia skórę bardziej miękką, odświeżoną i elastyczną.

Składniki/Ingredients

Water, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, 1,2-Hexanediol, Glyceryl Glucoside, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Carbomer, Arginine, Xylitol, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Adenosine, Glucose, Disodium EDTA, Hydrogenated Lecithin, Musa Sapientum (Banana) Flower Extract, Rosa Damascena Flower Water, Pyrus Communis (Pear) Fruit Extract, Prunus Domestica Fruit Extract, Squalane, Cucumis Melo (Melon) Fruit Extract, Hedera Helix (Ivy) Leaf/Stem Extract, Sodium Hyaluronate(3.5 ppm), Ceramide NP, Cetyl Ethylhexanoate, Cholesterol, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Brassica Campestris (Rapeseed) Sterols, Oleic Acid, Stearic Acid, Tocopherol, Hyaluronic Acid(0.1 ppm), Hydrolyzed Hyaluronic Acid(0.1 ppm), Hydrolyzed Sodium Hyaluronate(0.1 ppm), Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate(0.1 ppm), Potassium Hyaluronate(0.1 ppm), Sodium Hyaluronate Crosspolymer(0.1 ppm), Pentylene Glycol, Sodium Acetylated Hyaluronate(0.07 ppm).

Przeznaczenie produktu SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Do pielęgnacji każdego rodzaju skóry twarzy, szczególnie suchej, odwodnionej, normalnej, mieszanej i wrażliwej. Maska przeznaczona jest do cery wymagającej intensywnego nawilżenia, ukojenia oraz poprawy elastyczności. Sprawdzi się również w pielęgnacji skóry z uczuciem ściągnięcia, nierównomiernym kolorytem i drobnymi zmarszczkami wynikającymi z przesuszenia.

Stosowanie produktu SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Nałóż maskę w płachcie na oczyszczoną i stonizowaną skórę. Pozostaw na 10-20 minut, a następnie zdejmij. Pozostałość esencji delikatnie wklep.

Informacje o bezpieczeństwie

• Tylko do użytku zewnętrznego. 
• Unikać bezpośredniego kontaktu z oczami. 
• Przechowywać w suchym i chłodnym miejscu, poza zasięgiem dzieci. 
• Nie stosować na uszkodzoną lub podrażnioną skórę oraz w przypadku uczulenia na którykolwiek ze składników. 
• Przerwać stosowanie, jeśli pojawią się oznaki podrażnienia lub wysypki i skonsultować się z lekarzem.
• Maska przeznaczona jest do jednorazowego użytku.

FAQ SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Czy maska SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating nadaje się do skóry suchej?

Tak, maska zawiera osiem form kwasu hialuronowego, glicerynę oraz skwalan, które wspierają nawilżenie i ograniczają uczucie przesuszenia. Produkt pomaga poprawić miękkość oraz elastyczność skóry.

Jak długo należy pozostawić maskę SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating na twarzy?

Maskę należy trzymać na oczyszczonej skórze przez 10-20 minut. Po jej zdjęciu pozostałą esencję delikatnie wklepać do wchłonięcia, bez konieczności spłukiwania.

Czy po zastosowaniu maski SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating można nałożyć krem?

Tak, po wchłonięciu pozostałej esencji można zastosować krem pielęgnacyjny. Pomoże on uzupełnić pielęgnację nawilżającą i ograniczyć utratę wilgoci z naskórka.