SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack maseczka, 100 ml

Opis SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack, żelowa maska na noc z wąkrotą azjatycką to produkt kosmetyczny o lekkiej, żelowej formule, przeznaczony do całonocnej pielęgnacji skóry twarzy i szyi. Receptura łączy hydrolat z wąkroty azjatyckiej z kompleksem Hyalu-Cica, niacynamidem oraz składnikami nawilżającymi. Maska pomaga ograniczyć uczucie suchości i ściągnięcia, wspiera regenerację naskórka oraz pozostawia skórę miękką, wygładzoną i odświeżoną po przebudzeniu.

• Zapewnia długotrwałe nawilżenie skóry, pomagając ograniczyć jej przesuszenie.
• Wspiera nocną regenerację naskórka i poprawia jego kondycję.
• Łagodzi uczucie dyskomfortu skóry oraz zmniejsza widoczność zaczerwienień.
• Pomaga wygładzić powierzchnię skóry i poprawić jej elastyczność.
• Wspomaga wyrównanie kolorytu cery i przywrócenie jej promiennego wyglądu.

Składniki/Ingredients

Centella Asiatica Leaf Water, Aqua, Butylene Glycol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Niacinamide, Polyglutamic Acid, Pantolactone, Hibiscus Esculentus Extract, Carbomer, Panthenol, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Cetearyl Olivate, Methylpropanediol, Arginine, Pullulan, Sorbitan Olivate, Caprylic/Capric Triglyceride, Pyrus Communis (Pear) Fruit Extract, Adenosine, Rosa Damascena Flower Water, Cucumis Melo (Melon) Fruit Extract, Iris Florentina Root Extract, Ethyl Hexyl Glycerin, Hedera Helix (Ivy) Leaf/Stem Extract, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Maltodextrin, Artemisia Princeps Leaf Extract, Hydrolyzed Gardenia Florida Extract, Melatonin, Illicium Verum (Anise) Fruit Extract, Larix Sibirica Wood Extract, Quercus Mongolica Leaf Extract, Persicaria Hydropiper Extract, Rheum Palmatum Root/Stalk Extract, Asarum Sieboldii Root Extract, Chrysanthellum Indicum Extract, Corydalis Turtschaninovii Root Extract, Coptis Chinensis Root Extract, Machilus Thunbergii Bark Extract, Pentylene Glycol, Hydrogenated Lecithin, Ceramide NP.

Przeznaczenie produktu SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack

Do nocnej pielęgnacji skóry twarzy i szyi, szczególnie suchej, odwodnionej, zmęczonej i pozbawionej blasku. Maska sprawdzi się również w pielęgnacji cery wrażliwej, skłonnej do zaczerwienień oraz wymagającej wygładzenia i poprawy elastyczności. Odpowiednia do każdego rodzaju skóry jako uzupełnienie wieczornej rutyny pielęgnacyjnej.

Stosowanie produktu SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack

Na oczyszczoną i stonizowaną skórę twarzy oraz szyi nałożyć cienką warstwę maski. Równomiernie rozprowadzić, omijając okolice oczu, i pozostawić na całą noc. Rano zmyć letnią wodą.

Informacje o bezpieczeństwie

• Tylko do użytku zewnętrznego. 
• Unikać bezpośredniego kontaktu z oczami. 
• Przechowywać w suchym i chłodnym miejscu, poza zasięgiem dzieci. 
• Nie stosować na uszkodzoną lub podrażnioną skórę oraz w przypadku uczulenia na którykolwiek ze składników. 
• Przerwać stosowanie, jeśli pojawią się oznaki podrażnienia lub wysypki i skonsultować się z lekarzem.

FAQ SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack

Czy maskę SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack należy zmywać przed Sen?

Nie, maskę należy nałożyć cienką warstwą na oczyszczoną skórę twarzy i szyi, a następnie pozostawić na całą noc. Kosmetyk zmywa się dopiero rano, używając letniej wody.

Czy maska SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack nadaje się do skóry suchej?

Tak, produkt jest szczególnie polecany pielęgnacji skóry suchej i odwodnionej. Zawiera kwas hialuronowy, glicerynę oraz kwas poliglutaminowy, które wspomagają utrzymanie nawilżenia i pomagają ograniczyć uczucie ściągnięcia.

Czy maskę SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Sleeping Pack można stosować zamiast kremu na noc?

Tak, maska może stanowić ostatni etap wieczornej pielęgnacji, zastępując krem na noc. Jej formuła zawiera składniki nawilżające i wspierające barierę ochronną naskórka, dlatego sprawdzi się jako uzupełnienie codziennej rutyny pielęgnacyjnej.